/ I f/ l# I. J- H- G* H( ?手机厂商是从什么时候开始“卷”拍照功能的? 9 p' i4 o4 f& a" q) K # \. R+ p& m! V4 T' G $ x8 F6 G& w! p/ x这个问题的答案,如今可能已经无法准确的考证了。但回溯历史不难发现,手机上的拍照功能在最基础的设计思路上,可以说是很明确的经历了几个不同阶段。" O8 R$ Q/ k9 j& Q- u
! a, v4 D2 u* d( c比如在最早的时候,各厂商比拼的都是像素数量,从200万像素到320万像素,再到500万、800万、1200万、1300万,1600万,乃至后来的2000万、4000万、4800万和6400万。在差不多长达7、8年的时间里,整个行业以惊人的速度实现了手机影像CMOS的“高像素化”,但也因此吹了不少牛、闹了不少笑话。4 X4 h( {+ ?+ n, [1 o
2 n; n: B& O* v9 x. p/ ?紧接着“变焦倍率”开始成为各家的焦点,从30倍到50倍,从60倍到100倍,再到120倍、200倍……甚至当时一些诸如“变焦手机拍摄到xx不法分子”的消息在吸引眼球的同时,也变相帮相关厂商打了广告。然而很快实际掏了钱的消费者就发现,手机的极限望远基本没啥实用价值,于是大家也都不再吹这个牛了。 % r- O1 l5 }, _; F - J8 {8 H. [' [+ ?% o* p0 c8 P之后“多摄”成为了市场竞争的主要方向,于是从双摄到三摄、从四摄到五摄,再到双主摄、三主摄。好在机身的内部空间就那么大,于是盲目堆摄像头数量的风气很快就刹车了,只留下了消费者对于“凑数摄像头”的深恶痛绝。 ) L' \9 b z+ \& C 3 k* b5 v$ \4 j- l. Z) X然而正因为有了前面这几个阶段的“铺垫”,导致如今在整个手机行业中,拍照设计的基本思路也变得异常复杂。许多消费者也很难再通过表面上的参数,去对比和识别手机的CMOS配置好不好、技术规格到底有多高。* Z' n* T: J: P- l
" G# I5 t9 {4 {( F好在,这里面其实也并不是毫无规律可循。在分析了当前市场里的大量产品和已知的技术信息后,我们还是将手机拍照设计的思路按照它们的“内部级别”以及在不同档位产品上的分布情况,分出了“三六九等”。 9 x! w/ \* D4 U6 O $ v O ]+ s, f) E. u! e“人上人”的设计:架构进化胜于一切 * S( u4 F( a* `! ]/ m ! K" G c, l* P在半导体领域,架构的进化压倒单纯的“堆料”可以说是一个最基本的常识。它既适用于CPU、显卡,也同样适用于手机里的CMOS影像传感器。$ K3 t/ {5 L! ~( d4 M* L2 R+ M! p& w
- w9 c1 \) F0 ^$ H. W比如一个典型的例子就是三星的HP2,以及其后继型号HP25X,这两款CMOS在行业首创了“双垂直传输门(D-VTG)”结构。7 Z, t- W0 e7 E" K( U: p
8 [& V. H: T* A0 T, J6 Q2 L众所周知,CMOS的基本工作原理是靠光电二极管(PD)将光子转换为电子,然后传输门就负责释放光电二极管里的电子,并将电信号传输给浮动扩散层(FD),而FD里积累的电子就会被最终识别为代表像素点图像信息的电势差。$ ~/ |) ?7 L' B' t8 n( _% w0 S
4 f% _+ ~3 i: y' Z1 G如此一来,当三星将CMOS里每一个像素的传输门从一个增加到两个后,就带来了两重好处。其一,它使得光电二极管“放电”的速度更快、放电更彻底,这就变相增加了每个像素(光电二极管)的电子容量,也就是俗称的满阱容。其次,它还意味着CMOS中每个像素每次感光生成的信号电势差更明显、信噪比更高。 + Q! l+ f1 d5 M \- k7 d4 O: W! E7 \7 @ l0 K4 |
有多高呢?在IEEE的一份论文中显示,当HP2工作在2亿像素模式下的时候,它的单像素满阱容为10000个电子,如果是“四合一”之后的5000万像素模式,满阱容将高达40000个电子。要知道索尼引以为傲的全画幅相机A7R4的CMOS,满阱容也才36000个电子。也就是说在光线充足的前提下,三星这款旗舰级、仅有1/1.3英寸的手机CMOS,甚至用不到“16合1”像素模式,信噪比就已经超越了全画幅单电,因此对比普通的1英寸CMOS自然也是碾压。 * o# W6 g' E- P' C) b$ g3 w' C: d" T: n( ~4 y2 Y
当然,搞架构创新的不只是三星,也有索尼。只不过索尼走了另外一条没那么微观的创新道路,也就是所谓的“双层晶体管传感器”IMX888。( n# P6 A! {* }) e4 ^+ N
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那么什么叫做双层晶体管传感器呢?首先,大家还记得前文中在讲到三星CMOS时,提到的传输门(TG)吗。没错,在传统的单层CMOS上,包括传输门、行选择器、源跟随器等一系列不负责感光的信号传输和处理元件,与负责感光的光电二极管其实是“平铺”在一起布置的。 d+ N( }3 l* @1 G* H% A! |9 Z / k; g! ^( @; h' z4 _3 P很显然,这就造成了这些非感光元器件,实际上会挤占光电二极管真正的有效面积。也就是说在传统CMOS上,所谓的“传感器面积”里其实有一部分是并不感光的,它的真正感光元件尺寸也会比直接计算出的“像素尺寸”要实际略小一点点。; @$ T) t# e% [7 u
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而索尼的双层晶体管传感器,就是将这些不感光的信号读出元器件用第二块晶圆去制作,然后堆叠在感光元器件的下方。这样一来,真正感光的那一面就可以做到几乎“不掺假”的感光面积,二极管的尺寸可以被放大,同时CMOS面积还能够不增加(甚至是做得更小)。+ n: u& f# ?$ r/ I
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根据索尼公布的相关信息显示,在使用双层晶体管结构后,同样是“标称”1微米像素的CMOS,双层晶体管的型号满阱容可达12000个电子,比老式的设计直接翻倍。当然反过来说也就意味着,在以前的单层晶体管索尼CMOS上,“看似”1微米的像素,实际上可能只有一半的面积是真正用来感光的。 8 W4 |! T; B2 v" u0 ~# h1 U 2 l) f# r$ S2 n' A+ j; ?$ ?8 |底层设计不进步?就只能靠堆料了1 Q( s0 i) V1 r
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不知道大家看懂前面这段对于新架构CMOS的介绍没?如果没看懂,就么说明你可能是第二个等级的产品、也就是那些纯靠“堆料”来解决问题的CMOS的潜在用户。! |5 t1 n. |% i- b